---------------------------------------------------------------------------
SCIVAXインプリントフォーラムONLINEメール 2006年1月30日 No.2
---------------------------------------------------------------------------
発信元：SCIVAX株式会社
***************************************************************************
このメールは、当社技術に関しコンタクトさせて頂いた方々にお送りしております。SCIVAX社のナノインプリントを中心とする技術開発関連情報、対外発表ご案内、アンケートなどを送信させて頂くものです。
配信の中止・変更などは、末尾のご案内をご参照下さい。
***************************************************************************
ナノインプリント／---------------------------------------------------------
＜目次＞
---------------------------------------------------------------------------
１．SCIVAXナノインプリントテクニカルレビュー Vol.1 概論(後編)
http://www.scivax.com/nanoimprint/technical_review_Vol.1_part2.pdf
２．SCIVAXナノインプリント技術説明会
http://www.scivax.com/page/nanoimprint_seminar.htm
３．ナノテク展2006に出展
http://www.ics-inc.co.jp/nanotech/
４．KASTフォーラム講演
http://www.newkast.or.jp/event/event_060207.html
５．細胞培養、光学用ハニカムシートサンプル提供開始
http://www.scivax.com/page/press_0501227.htm
６．大面積一括転写サンプル(40μmフィルム/DVDパターン)
http://www.scivax.net/scivax/project/nil.nsf/CID/0501
知財サービス／-------------------------------------------------------------
＜目次＞
---------------------------------------------------------------------------
１．知財セミナー「発明の把握及び発明概念の拡大手法」のご案内
ナノインプリント／---------------------------------------------------------
１．SCIVAXナノインプリントテクニカルレビュー Vol.1 概論(後編) ---------------------------------------------------------------------------
ナノインプリント実用化に向け開発を進める多くの企業が様々な問題に直面しています。ナノインプリント技術は超微細化工の一手段であり、実用化にはアプリケーションからブレークダウンされる種々の異分野技術との融合が不可欠となります。当社では開発当初より量産時の問題点を想定し、必要技術を5つのカテゴリーに分類し、異分野連携を実現しております。本サイトでは以下のスケジュールでアプリケーションを含めた当社開発成果を中心に最新ナノインプリント技術をレビューします。
＜掲載予定＞
第1回：概論 (前編)(後編)
第2回：金型
第3回：材料
第4回：プロセス
第5回：評価技術
第6回：装置
第7回：アプリケーション開発
第8回：アプリケーション開発
http://www.scivax.com/nanoimprint/technical_review_Vol.1.pdf
http://www.scivax.com/nanoimprint/technical_review_Vol.1_part2.pdf
※2月16日以降閲覧される場合は会員登録が必要になります。継続して閲覧をご希望される方は以下から会員登録をお願い致します。
https://www.scivax.net/applicationform_nanoimprint.nsf/Questionnair?OpenForm
２．SCIVAXナノインプリント技術説明会
以下の日時で最新の開発成果をベースにナノインプリント技術説明会を開催致します。装置のデモンストレーションも実施しますので、是非ともご参加下さい。
<日時>
2006年2月17日 13:00-17:00
3月17日 13:00-17:00
4月17日 13:00-17:00
<場所>
かながわサイエンスパーク(KSP)
西棟711号室
http://www.scivax.com/page/nanoimprint_seminar.htm
３．ナノテク展2006に出展
装置、プロセス、金型、樹脂、アプリケーションに係わる最新の開発成果を展示致します。それぞれの分野の開発責任者が直接説明致しますので、是非ともお立ち寄り下さい。
日時：2月21日～2月23日
場所：東京ビックサイト C-19ブース
http://www.ics-inc.co.jp/nanotech/
４．KASTフォーラム3－次世代技術の本命「ナノインプリント技術」異分野の融合から応用展開へ---------------------------------------------------------------
本フォーラムではナノインプリントに関し、技術原理、装置、アプリケーション、金型開発といった異なる立場からそれぞれの第一人者が講演されます。参加ご希望の方は、以下のURLから直接お申し込み下さい。
http://www.newkast.or.jp/event/event_060207.html
＜プログラム＞
講演1 【 KAST事業説明 】
～ 光科学重点研究室 マイクロ化学グループ
「マイクロ・ナノ化学システムの現在とナノインプリントへの期待」
北森 武彦 氏 （KAST, 東京大学大学院工学系研究科 教授）
講演2 【 科学技術講座1 】
「ナノインプリント～基礎から世界の最新研究動向まで」
平井 義彦 氏 （大阪府立大学大学院工学研究科 教授）
講演3 【 科学技術講座2 】
「分子エレクトロニクスにおけるナノトランスファープリンティングの重要性」
松本 卓也 氏 （大阪大学 産業科学研究所 助教授）
講演4 【 科学技術講座3 】
「ココまで来た！ナノインプリントの産業応用インパクト」
楠浦 崇央 氏 （SCIVAX株式会社 取締役）
講演5 【 科学技術講座4 】
「量産対応のキーパーツ～ナノモールド研究開発最前線」
栗原 健二 氏（NTT-ATナノファブリケーション株式会社）
５．細胞培養、光学用ハニカムシートサンプル提供開始
SCIVAXはナノインプリント技術を用い超微細ハニカム構造を有する樹脂フィルム(40ミクロン)の作製に成功しました。同フィルムはバイオテクノロジー分野、電子材料分野、光学分野等、種々の分野での応用が期待されており、種々の分野に対しサンプルの提供を行っております。
http://www.scivax.com/page/press_0501227.htm
６．大面積一括転写サンプル(40μmフィルム/DVDパターン)
http://www.scivax.net/scivax/project/nil.nsf/CID/0501
知財サービス／---------------------------------------------------------
・知財セミナー「発明の把握及び発明概念の拡大手法」のご案内
＜セミナー内容＞
１）タイトル「発明の把握及び発明概念の拡大手法」
２）講師
奥田 律次 奥田特許事務所 所長
弁理士。専門分野は化学、材料、デバイス。
特許出願、権利取得業務を行う傍ら、特に発明の発掘手法について研究を行い、発明創作・発掘の段階からのクライアントに対するサービスに注力。
早稲田セミナーでの弁理士講座の講師として後進の指導においても活躍中。
五丁 龍志 SCIVAX株式会社 取締役
弁理士。専門分野はバイオテクノロジー、化学、医療用デバイス。
製薬会社での約10年にわたる知財業務で身につけたノウハウを活かし、研究者に対する教育、知財のビジネス活用を実践中。
早稲田セミナーで、弁理士入門講座の講師として後進の指導においても活躍中。
前野 拓道 SCIVAX株式会社 代表取締役社長
三井物産時代からの８０以上に渡る共同研究契約の経験から、知財に関するコミュニケーションとコラボレーションの在り方を検討。現在、知財と圧名に関わるアウトソーシング手法の確立を推進中。
３）内容
①知財の中での特許の位置づけ（概論）
②発明の把握とその概念の拡大手法
③知財活動自体の上位概念を考える
以上の３つの点から、研究成果の価値を最大限に引き出す観点から講義・議論を行います。
特に②発明把握・概念拡大は、研究成果を権利化する際の最重要ポイントです。この２点についての効果的な手法を学び、実務に生かせるよう実際に演習を行っていただきます。
４）対象
研究成果から発明を引き出し、概念を拡大するノウハウを身につけたい方
（研究者、知財担当者他）
＜日時・場所＞
日時：２月３日金曜日 １４：００～１７：００ （１３：３０開場）
場所：SCIVAX株式会社 本社
都営新宿線 馬喰横山駅・都営浅草線 東日本橋駅のA3出口より１分。
（JR総武快速線馬喰町駅が地下通路で接続）
http://map.yahoo.co.jp/pl?nl=35.41.17.365&el=139.47.11.551
＜応募方法・参加費＞
応募方法：[email protected]までメールにて、お名前、所属組織、ご連絡先をご記述の上、お申し込みください。（尚、会場のスペースの都合上、お申し込みが１２名様になった時点で締切りとさせていただきます。悪しからずご了承下さい。）
セミナー参加費：１万円（税込み）／人
当日お支払いにてお願いします。領収証をご用意致します。ご要望により事前の銀行振込みも受け付けます。
＜本セミナーについて＞
本セミナーではオリジナルテキストを使用しております。前回セミナーでのアンケート結果では、参加された方の６０％以上が、内容、構成、理解度に「大変満足」いただき、７０％以上の方より「面白かった」とのご評価をいただいております。
◇当サービスのご利用に当たって◇-------------------------------------------------------------------------
・このメールは返信が可能です。
・メールアドレスの変更や配信停止は本メールの返信によりご連絡下さい。
---------------------------------------------------------------------------
Copyright(C), SCIVAX株式会社, 2006 掲載記事の無断転写を禁じます。
〒103-0004 東京都中央区東日本橋3-4-10
---------------------------------------------------------------------------
最近のコメント