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SCIVAXインプリントフォーラムONLINEメール 2006年2月13日 No.3
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発信元：SCIVAX株式会社
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このメールは、当社技術に関しコンタクトさせて頂いた方々にお送りしております。SCIVAX社のナノインプリントを中心とする技術開発関連情報、対外発表ご案内、アンケートなどを送信させて頂くものです。
配信の中止・変更などは、末尾のご案内をご参照下さい。
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ナノインプリント／---------------------------------------------------------
＜目次＞
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１．SCIVAXナノインプリントテクニカルレビュー Vol.2 (前編)
http://www.scivax.com/nanoimprint/technical_review.htm
２．SCIVAXナノインプリント技術説明会
http://www.scivax.com/page/nanoimprint_seminar.htm
３．ナノテク展2006に出展
http://www.ics-inc.co.jp/nanotech/magazine/m03.html
４．2月7日にKASTフォーラムを開催
５．大阪府立大学にナノインプリント装置(X-200)を設置
http://www.scivax.net/scivax/project/nil.nsf/CID/0100
６．新手法によりナノインプリント金型を開発/金型コストを大幅に低減
協同インターナショナル株式会社
http://www.scivax.net/scivax/project/nil.nsf/CID/0501
７．SCIVAXインプリントフォーラムONLINEメール登録開始
https://www.scivax.net/applicationform_imprintforum.nsf/Questionnair?OpenForm
知財サービス／-------------------------------------------------------------
＜目次＞
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１．知財教育カリキュラム体験会のご案内（無料）
ナノインプリント／---------------------------------------------------------
１．SCIVAXナノインプリントテクニカルレビュー Vol.2 金型(前編) ---------------------------------------------------------------------------
ナノインプリント実用化に向け開発を進める多くの企業が様々な問題に直面しています。ナノインプリント技術は超微細化工の一手段であり、実用化にはアプリケーションからブレークダウンされる種々の異分野技術との融合が不可欠となります。当社では開発当初より量産時の問題点を想定し、必要技術を5つのカテゴリーに分類し、異分野連携を実現しております。本サイトでは以下のスケジュールでアプリケーションを含めた当社開発成果を中心に最新ナノインプリント技術をレビューします。
今回はナノインプリントで最も重要な要素技術に位置づけられる金型技術に関し解説します。
＜掲載予定＞
第1回：概論 (前編)(後編)
第2回：金型 (前編)(後編)
第3回：材料
第4回：プロセス
第5回：評価技術
第6回：装置
第7回：アプリケーション開発
第8回：アプリケーション開発
http://www.scivax.com/nanoimprint/technical_review.htm
※2月16日以降閲覧される場合は会員登録が必要になります。継続して閲覧をご希望される方は以下から会員登録をお願い致します。
https://www.scivax.net/applicationform_nanoimprint.nsf/Questionnair?OpenForm
２．SCIVAXナノインプリント技術説明会
以下の日時で最新の開発成果をベースにナノインプリント技術説明会を開催致します。装置のデモンストレーションも実施しますので、是非ともご参加下さい。
<日時>
2006年2月17日 13:00-17:00
3月17日 13:00-17:00
4月17日 13:00-17:00
<場所>
かながわサイエンスパーク(KSP)
西棟711号室
http://www.scivax.com/page/nanoimprint_seminar.htm
３．ナノテク展2006に出展
フィルムを中心とした種々のナノインプリント成形品サンプル及び当社が独自に開発を進めているバイオ関連アプリケーション開発に関し発表致します。
http://www.ics-inc.co.jp/nanotech/magazine/m03.html
日時：2月21日～2月23日
場所：東京ビックサイト C-19ブース
http://www.ics-inc.co.jp/nanotech/
４．KASTフォーラム3－次世代技術の本命「ナノインプリント技術」異分野の融合から応用展開へ---------------------------------------------------------------
お蔭様で企業関係者を中心に170名を超える皆様にご出席賜りました。厚く御礼申し上げます。
今後はナノインプリント技術をベースとした新規アプリケーションを中心に講演会を企画する予定です。引き続きよろしくお願い申し上げます。
５．大阪府立大学にXシリーズを設置
当社の共同研究先である大阪府立大学大学院 平井義彦教授の研究室にX-200を設置しました。今後、ナノインプリント用に樹脂メーカーと共同開発した特殊樹脂を用
いて種々の共同研究に取り組みます。
http://www.scivax.net/scivax/project/nil.nsf/CID/0100
６．新手法によりナノインプリント金型を開発/金型コストを大幅に低減
(㈱協同インターナショナル)
SCIVAXの開発パートナーである㈱協同インタナショナルは全く新しい製法によるナノインプリント用金型の開発に成功。従来の製法に比し大幅な金型コスト削減が期待されます。当社では既にVXシリーズによるインプリント試験（４インチ金型による）を実施し、良好な結果が得られております。
http://www.scivax.net/scivax/project/nil.nsf/CID/0501
http://www.kyodo-inc.co.jp/
７．SCIVAXインプリントフォーラムONLINEメール登録開始
本メルマガの登録画面を設定致しましたので、ご興味をお持ちの方々にご紹介下さい。
https://www.scivax.net/applicationform_imprintforum.nsf/Questionnair?OpenForm
知財サービス／---------------------------------------------------------
・知財教育カリキュラム体験会のご案内
（年間シリーズテーマ：「知を価値あるかたちに」２００６）
皆様に於かれましては、益々ご清栄のこととお慶び申し上げます。
昨年よりご提供を開始し、好評いただいております弊社知財教育カリキュラム「実践！知財eトレーニング」について、下記のとおり体験会を開催致します。今回は「基本編：特許公報の歩き方」に加え、「応用編：秘伝！ツール攻略法」を、実際に体験・評価いただけるよう用意致します。
皆様の参加をお待ちしております。
参加ご希望の方は、下記３．記載の要領にて、担当の松本（03-5649-3584・[email protected]）まで、Fax又はe-mailにて参加予定者の氏名と、希望日及び希望時間（第３候補まで）をご連絡くださいますようお願い致します。
記
１．内容
１）タイトル「実践！知財eトレーニング体験会」
２）内容
①実践！知財e-トレーニングの概要ご説明（３０分）
②基本編／応用編体験会（４５分）
③質疑応答・個別相談（４５分）
２．日時・場所
候補日 ：３月 ２日木曜日
３月 ３日金曜日
３月１０日金曜日
時 間 ：午前 １０：００～１２：００ （午前９：４０開場）
午後 ３：００～ ５：００ （午後２：４０開場）
場 所 ：SCIVAX株式会社 本社
都営新宿線 馬喰横山駅・都営浅草線 東日本橋駅のA3出口より１分。
（JR総武快速線馬喰町駅が地下通路で接続）
地図：
http://map.yahoo.co.jp/pl?nl=35.41.17.365&el=139.47.11.551
３． 応募方法・参加費
応募方法：メール（宛先：[email protected]） 或いは
Fax（ 03-5649-3584）にて、弊社松本まで、添付申込書の記載事項（参加者氏名、所属組織、連絡先、希望日時）をご記入の上、お申し込みください。（尚、会場のスペースの都合上、お申し込みが１２名様になった時点で締切りとさせていただきます。悪しからずご了承下さい。）
参加費： 無料
◇当サービスのご利用に当たって◇-------------------------------------------------------------------------
・このメールは返信が可能です。
・メールアドレスの変更や配信停止は本メールの返信によりご連絡下さい。
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〒103-0004 東京都中央区東日本橋3-4-10
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